[招聘]流体力学工程师——上海微电子装备有限公司

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上海微电子装备有限公司成立于2002年，公司主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
公司现拥有一支500多人的多学科、高技术的人才队伍，技术涉及光学、结构、动力学、精密运动和控制、软件工程、精密测量、微环境控制等众多领域。
为配合公司业务的不断发展壮大，真诚地期望同行业的精英加盟上海微电子装备有限公司，共创美好未来。
招聘岗位:流体力学工程师
招聘人数: 2人
招聘部门:微环境工程部
岗位要求：
        1.水动力学、多相流体、计算流体等专业，硕士及以上学历。
        2.掌握经典水动力学理论、边界层理论等基础理论知识，对气液两相流有研究者优先。
        3.能熟练运用fluent,Ansys ICEM,Gambit软件，开展流体流动数值分析。
待遇：面议
备注：北京航天航空大学流体力学研究所的毕业生尤佳
请有意者将简历发送至邮箱：l u o j @ s m e e . c o m . c n
目前没有安排校园宣讲会。
联系人：罗先生
电话：021-5131 5131
欢迎访问我司网站：w w w . s m e e . c o m . c n

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上海微电子装备有限公司是国家光刻设备研发中心，承担国家重大专项。

目前的产品包括：

600扫描光刻机系列—前道IC制造
基于先进的扫描光刻机平台技术，提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需，包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。

500步进光刻机系列—后道IC、MEMS制造
基于先进的步进光刻机平台技术，提供覆盖后道IC封装、MEMS/NEMS制造的步进投影光刻机。该系列光刻机采用高功率汞灯的ghi线作为曝光光源，其先进的逐场调焦调平技术对薄胶和厚胶工艺，以及TSV-3D结构等具有良好的自动适应性，并通过采用具有专利的图像智能识别技术，无需专门设计特殊对准标记。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度和高生产率等一系列优点，可满足用户对设备高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生产需求。

200光刻机系列—AM-OLED显示屏制造
200系列投影光刻机综合采用先进的步进光刻机平台技术和扫描光刻机平台技术，专用于新一代AM-OLED显示屏的TFT电路制造。该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线，也可用于基板尺寸为G2.5(370mm × 470mm)和G4.5(730mm × 920mm)的AM-OLED显示屏量产线。

硅片边缘曝光机系列——芯片级封装工艺应用
SMEE开发的硅片边缘曝光机提供了满足芯片级封装工艺中对硅片边缘进行去胶处理的能力，设备可按照客户要求配置边缘曝光宽度、硅片物料接口形式、曝光工位等不同形式。设备同时兼容150mm、200mm和300mm等三种不同规格的硅片，边缘曝光精度可到达0.1mm。设备配置了高功率光源，具有较高的硅片面照度，提高了设备产率。

精密温控系列—光刻机、刻蚀机应用
SMEE为集成电路行业提供多种超/高精度温度控制装置，可分别用于半导体前道设备中的扫描光刻机和各种用途的刻蚀机等设备的精密温度控制，也可应用于精密光学、仪器、精密机床制造及各种科学实验场所。温度精度可达0.01℃，控温范围可达-30℃至90℃。

精密温度控制解决方案
SMEE提供各种类型的超高精度温度控制全面解决方案，可按客户具体需求提供从设计、制造、安装、调试到维护的一条龙服务，可应用于光学镜头、光栅、精密元件、精密仪器和精密机床制造等领域，尤其适合于材料提纯、测试、测量和定位定准等各种科学实验场合。